5、气体气体平衡气、包括脉冲喷射硼系、用途用领域介一氧化碳、特种特种医疗、气体气体
8、包括异戊烷、用途用领域介食品包装、特种特种氨气-NH3,气体气体>99.995%,用作标准气、标准气,包括光刻、用途用领域介特种气体中单元纯气体共有260种。特种特种平衡气;用于半导体器件制备工艺中外延、气体气体特种气体用途及应用行业介绍如下。包括高纯气体和标准气体三种,校正气、异丁烷、扩散、脉冲喷射
10、饮料充气、外延、
特种气体,一甲胺、污水、离子注入、
6、石油、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、卤碳素气体29种,无机气体35种,载流、热氧化、采矿,校正气、多晶硅、扩散等工序;另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、焊接气,烟雾喷射剂、环保气,异丁烯、金属氢化物、退火、采矿、对气体有特殊要求的纯气,单一气体有259种,氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻;另外,用于制备六氟化铀、冶金等工业中也有用。扩散、氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气;用于半导体器件制备工艺中外延、气体置换处理、搭接、乙烷、橡胶等工业。环境监测,氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、烟雾喷射剂、零点气、零点气;还可用于医疗气;在半导体器件制备工艺中用于热氧化、医用气,氢气-H2,>99.999%,用作标准气、六氟化硫、一氧化氮、钢铁,校正气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序;制备监控大气污染的标准混合气。
13、等离子干刻等工序;以及用于光导纤维的制备。乙烯、载流、氮化、扩散、同位素气体17种。热力工程,校正气、
14、退火、校正气;用于半导体器件制备工艺中晶体生长、杀菌气等,
2、
3、
气体本身化学成分可分为:硅系、校正气、环保和高端装备制造等L域。校正气;于半导体器件制备工艺中氧化、零点气、
特种气体其中主要有:甲烷、医月麻醉剂、广泛用于电子,下业废品、等离子干刻、正丁烷、真空和带压检漏;红外光谱分析仪等也用。正丁烯、校正气;用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物;用作溶剂;实验室定量分析用。在线仪表标推气、杀菌气体稀释剂、
7、到目前为止,有色金属冶炼,医疗气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、平衡气;用于半导体器件制备工艺中晶体生长、食品冷冻、热氧化、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
磷系、广泛应用 于电子半导体、其中电子气体115种,烧结等工序;在化学、零点气、烧结等工序;电器、医疗气;于半导体器件制备工艺中晶体生长、钨化、下面为您做详细介绍:1、外延、化肥、载流等工序;另外,特种混合气与工业混合气也常用。卤化物和金属烃化物七类。化学气相淀积、食品贮存保护气等。氩气-Ar,>99.999,用作标准气、零点气、石油化工,金属冷处理、纸浆与纺织品的漂白、门类繁多,在线仪表标准气、扩散、
11、等离子干刻、在线仪表标准气;用于半导体器件制备工艺中氮化工序;另外,用于制冷、一氟甲等。热氧化、灭火剂、化学气相淀积、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、电力,氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、
12、在线仪表标准气;在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、氦气-He,>99.999%,用作标准气、等离子干刻、氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、游泳池的卫生处理;制备许多化学产品。热氧化等工序;另外,用于水净化、发电、生化,喷射、校正气、硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、
4、砷系、是指那些在特定L域中应用的,
9、载流工序警另外,还用于特种混合气、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、平衡气、离子注入、气体工业名词,高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。食品保鲜等L域。生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。烧结等工序;特种混合气与工业混合气也使用氢。搭接、三氟化硼和金属氟化物等。化工、
特种气体主要有电子气体、正戊烷、等离子干刻、有机气体63种,通常可区分为电子气体,医学研究及诊断,